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https://opaj.napstic.cn/periodicalArticle/downloadReview/0120110505172733
溅射气氛对RF反应磁控溅射制备ZnO薄膜微结构及光致发光特性的影响OA北大核心CSCDCSTPCD
Effect of Sputtering Atmosphere on the Structure and Optical Properties of ZnO Thin Films by RF Reactive Magnetron Sputtering
用射频反应磁控溅射法在不同溅射压强和氩氧比下制备了ZnO薄膜,通过X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)和光致发光(PL)谱等研究了溅射压强和氩氧比对ZnO薄膜结构和光学性质的影响.测量结果显示,所制备的ZnO薄膜为六角纤锌矿结构,具有沿c轴的择优取向;溅射压强P=0.6 Pa,氩氧比Ar/O2=20/5.5 sccm时,(002)晶面衍射峰强度和平均晶粒尺寸较大,(002)XRD峰半峰全宽(FWHM)最小,光致发光紫外峰强度最强.
祐卫国;张勇;李璟;杨峰;CHENG C H;赵勇
西南交通大学超导研究开发中心,材料先进技术教育部重点实验室,四川,成都,610031西南交通大学超导研究开发中心,材料先进技术教育部重点实验室,四川,成都,610031西南交通大学超导研究开发中心,材料先进技术教育部重点实验室,四川,成都,610031西南交通大学超导研究开发中心,材料先进技术教育部重点实验室,四川,成都,610031School of Materials Science and Engineering,University of New South Wales,Sydney,NSW 2052,Australia西南交通大学超导研究开发中心,材料先进技术教育部重点实验室,四川,成都,610031
数理科学
ZnO薄膜射频反应磁控溅射溅射压强氩氧比光致发光
《发光学报》 2010 (4)
涂层导体化学溶液沉积制备中的微观结构控制和多功能缓冲层探索
503-508,6
国家自然科学基金(50588201,50872116)国家重大基础研究项目"973"(2007CB616906)国家高科技项目"863"(2007AA03Z203)高等学校博士点专项科研基金(sRFDP200806130023)西南交通大学科研基金(2008815)资助项目
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